석신산 무수물 CAS 108-30-5

BLIT Chemical 석신산 무수물(SA)은 가소제, 수지 생산 및 화학 합성에 사용되는 중요한 산업용 화학 물질입니다. 석신산에서 유래되었으며 주로 폴리머, 코팅 및 식품 첨가물 제조에 사용됩니다. SA는 또한 제약 산업에서 응용되며 윤활제, 페인트 및 농업 화학 물질 생산의 핵심 중간체입니다.

사양:

애플리케이션:

불포화 폴리에스터 수지(UPR)의 합성: 석신산 무수물은 불포화 폴리에스터 수지 생산에서 핵심적인 단량체입니다. 말레산 무수물(말레산 무수물)과 공중합하여 수지에 우수한 기계적 특성과 내식성을 부여합니다. 유리 섬유 강화 플라스틱(FRP), 자동차 부품, 파이프라인 및 건축 복합 재료에 널리 사용됩니다.

에폭시 수지 경화제: 무수물 경화제로서, 석신산 무수물은 고리 개방 반응을 통해 에폭시기와 가교 결합하여 고온 및 내화학성 에폭시 수지 시스템을 형성합니다. 이는 전자 패키징, 절연 코팅 및 접착제에 사용됩니다.

계면활성제 및 에스터 유도체: 석신산 모노에스터 또는 디에스터(디메틸 석신산 등)는 에스터화 반응을 통해 생성되며 생분해성 친환경 계면활성제, 윤활제 및 가소제를 제조하는 데 사용됩니다.

약물 합성 중간체: 항생제(세팔로스포린 등), 비타민(비타민 A/E 등), 항암제 합성에 사용되며, 아실화 반응을 통해 활성기를 도입하거나 약물 용해도를 향상시킨다.

식물 생장 조절제: 석신산 유도체는 작물 대사를 조절하고, 뿌리 발달과 스트레스 저항성을 촉진할 수 있습니다.

살충제 중간체: 효과가 높고 독성이 낮은 살충제나 제초제를 합성하는 데 사용되는 활성 성분.

리튬 이온 배터리 전해액 첨가제: 필름 형성 보조제로서 전극 안정성을 개선하고 배터리 사이클 수명을 연장합니다.

포토레지스트 재료: 고해상도 반도체 포토레지스트 제제에서는 수지의 용해도와 반응성을 조절하는 데 사용됩니다.

주요 물리적 특성 및 응용 연관성

높은 반응성: 무수물 그룹은 고리를 쉽게 열 수 있으며 가교제 또는 중간체로 적합합니다.

생체적합성: 분해산물(석신산)은 무독성이며 의료/환경 보호 요구 사항을 충족합니다.

열 안정성: 고분자 소재의 가공 조건(사출 성형, 경화 등)에 적합합니다.

사용 지침:

보관: 습기와 열원에서 멀리하고 시원하고 건조한 곳에 보관하세요.

건강 위험: 흡입 및 피부 접촉을 피하십시오. 호흡기 자극 및 피부 화상을 일으킬 수 있습니다.

반응성: 물과 반응하여 석신산을 형성합니다. 습기가 있는 곳에서는 조심해서 다루세요.

환경 안전: 해당 지역의 환경 규정에 따라 폐기하세요.

패키지:

25kg/드럼 또는 가방 16mt/20'FCL